Tratamento de superfície em cerâmica - revestimento a vácuo PVD

Tratamento de superfície em cerâmica - revestimento a vácuo PVD

PVD (Deposição física de vapor): processo de formação de um revestimento de um metal ou composto com propriedades especiais na superfície de uma peça por reação física ou química em meteorologia.
Fluxo de processo:
Pré-limpeza de PVD - aspiração do forno - lavagem de alvos e limpeza de íons - revestimento - resfriamento - pós-processamento (polimento, AFP)
Características técnicas:
1. O material da camada sedimentar provém de uma fonte de material sólido, e várias fontes de aquecimento são usadas para transformar o material sólido em um estado atômico;
2. A camada sedimentar obtida era fina, com uma faixa de espessura de nm-10m (10-9 ~ 10-6nm).
3. A camada sedimentar foi obtida sob condições de vácuo com alta pureza de revestimento;
4. Produzida sob a condição de plasma de baixa temperatura, a atividade geral das partículas sedimentares é grande e é fácil combinar com o gás de reação para obter vários revestimentos;
5. Camada sedimentar fina, fácil de controlar vários parâmetros de processo;
6. A deposição é realizada sob condições de vácuo e nenhum gás nocivo é descarregado, portanto pertence à tecnologia livre de poluição.

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