Dispositivo principal de processamento de feixe de elétrons

Dispositivo principal de processamento de feixe de elétrons

O dispositivo de processamento de feixe de elétrons consiste principalmente nas seguintes partes:

Pistola eletrônica

Um dispositivo para obter um feixe de elétrons, que inclui:
1. Catodo de emissão de elétrons - feito de tungstênio ou tântalo e emitindo elétrons sob condições de aquecimento.
2, controlar o portão - não apenas controlar a força do feixe de elétrons, mas também ter um efeito de foco primário.
3. Ânodo acelerado - geralmente aterrado e, como o cátodo tem uma pressão negativa alta, ele pode levar os elétrons a acelerar.

Sistema de vácuo

Garanta o vácuo necessário para o processamento eletrônico. O grau de vácuo do processamento geral do feixe de elétrons é mantido em 1,33 × 10-2 ~ 1,33 × 10-4 Pa.

Sistema de controle e fonte de alimentação

O sistema de controle inclui controle de foco do feixe, controle de posição do feixe, controle de força do feixe e controle de deslocamento da mesa.
Controle de foco do feixe: aumenta a densidade de energia do feixe de elétrons, que determina a abertura ou a largura da costura do ponto de processamento.
Método de foco: primeiro, o campo eletrostático de alta tensão é usado para focar o fluxo de elétrons em um feixe fino; Outro método é usar uma "lente eletromagnética" para focar em um campo magnético.

Controle de posição do feixe: altera a direção dos elétrons.
Controle de deslocamento da mesa: controle a posição da mesa durante a usinagem.
Fonte de alimentação: requisitos de estabilidade de alta tensão, comumente usados para estabilizar a fonte de alimentação.

Máquina de revestimento óptico por feixe de elétrons IKS PVD ， IKS-OPT2700, Mais detalhes, entre em contato com iks.pvd@foxmail.com