Fatores do filme fino desigual causados por Magnetron Sputtering Máquina de revestimento a vácuo

Os fatores de camada de filme desigual causada por máquina de revestimento a vácuo por pulverização por magnetron incluem três aspectos: estado de vácuo, campo magnético e gás argônio.

O princípio de funcionamento da máquina de revestimento por vácuo de pulverização de magnetron é que, sob os estados de vácuo, o elétron do campo magnético ortogonal para bombardear o argônio e formar o íon de argônio, então bombardeio do material alvo, de modo que o íon alvo possa ser depositado no superfície da peça de trabalho para formar filme fino.

O estado do vácuo precisa controlar o sistema de bombeamento, e cada ventilação deve ser simultaneamente atuada e consistente. Se o bombeamento não for uniforme, a pressão dentro da câmara de vácuo será desigual. A pressão tem uma certa influência sobre o movimento de íons. Além disso, o tempo de bombeamento deve ser controlado. Muito curto causará um vácuo insuficiente, mas é muito longo e um desperdício de recursos.

O campo magnético funciona de forma ortogonal, mas é impossível tornar a intensidade do campo magnético 100% uniforme. Onde o campo magnético geral é forte, a espessura do filme é grande, mas é pequena, pelo contrário, causará a inconsistência da espessura do filme. No entanto, no processo de produção, a desigualdade do filme devido à não-uniformidade do campo magnético não é comum.

A uniformidade do gás argônio também afeta a uniformidade do filme, e o princípio é semelhante ao vácuo. Como o argônio entra na câmara de vácuo, a pressão dentro da câmara mudará. A pressão uniforme pode controlar a uniformidade da espessura do filme da máquina de revestimento por vácuo de pulverização por magnetron.

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