Tipos e características de dispositivos PVD
Nov 18, 2022| Tipos e características de dispositivos PVD
De acordo com a diferença no mecanismo físico durante a deposição, a deposição física de vapor é geralmente dividida em tecnologia de revestimento por evaporação a vácuo, revestimento por pulverização catódica a vácuo, revestimento de íons e epitaxia de feixe molecular. Nos últimos anos, o desenvolvimento da tecnologia de filmes finos e materiais de filmes finos fez um progresso notável. Na base original, houve tecnologia de deposição aprimorada por feixe de íons, tecnologia de deposição de faísca elétrica, tecnologia de deposição de vapor físico por feixe de elétrons e tecnologia de deposição de jato multicamada.
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