Evaporação a vácuo, sputtering, chapeamento de íons
Dec 23, 2020| Evaporação a vácuo, sputtering, chapeamento de íons
O método de evaporação do vácuo é um método de aquecimento de metais sob alto vácuo, fazendo-os derreter e evaporar, e então formar uma película de metal na superfície da amostra após o resfriamento. A espessura do revestimento é de 0,8-1.2um. A pequena parte côncava e convexa na superfície do produto formador é preenchida para obter a superfície como um espelho. O revestimento inferior deve ser realizado para alcançar o efeito do espelho e evaporação do vácuo, ou para aspirar a evaporação para o aço com baixo aperto.
Sputtering geralmente se refere ao controle magnético sputtering, pertence ao método de alta - velocidade baixa - sputtering de temperatura. Requisitos tecnológicos do grau de vácuo em 1 x 10-3 torr, ou seja, 1,3 x 10-3 pa argônio de gás inerte a vácuo (Ar), e o material de base plástica (ânodo) e material-alvo metálico (cátodo) e corrente direta de alta tensão (dc), porque a descarga de brilho (descarga de brilho) produzida pela excitação eletrônica de gás inerte, plasma, plasma para bomba atômica de metal fora do material alvo , é depositado no material de base de plástico. O revestimento metálico geral usa principalmente revestimento de respingo DC, e materiais magnéticos cerâmicos não condutores usam revestimento rf ac splash.
O revestimento de íons é um método de gás parcialmente ionizante ou material vaporizado por descarga de gás sob condição de vácuo, e depositando material vaporizado ou seus reagentes no substrato sob bombardeio de íons de gás ou íons materiais vaporizados. Eles incluem revestimento de íons de sputtering magnetron, revestimento de íons reativos, revestimento de descarga de cátodo oco (método de evaporação de cátodo oco), chapeamento de íons multi-arco (revestimento de íons de arco catódula) e assim por diante.
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