Fonte de íons da camada anódica
Feixe de íons estável, limpeza completa
Melhorar muito a adesão do filme
Adequado para processo PVD completo
Resfriado-a água para trabalho-longo
Alta confiabilidade e baixa taxa de falhas
- Introdução de Produto
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Item |
Valor |
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Nome do produto |
Fonte de íons da camada anódica Cátodo de limpeza de plasma Cátodo de gravação de plasma |
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Tensão de trabalho |
0 – 2000 V |
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Corrente de trabalho |
0.5 – 2 A |
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Energia Iônica |
50 – 500 eV |
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Corrente de feixe |
50 – 200 mA |
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Gás de trabalho |
Ar, C₂H₂ |
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Método de resfriamento |
Resfriamento de água |
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Tamanho do Flange |
Personalizável |
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Função principal |
Limpeza, bombardeio de íons, melhoria de adesão |
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Processo Aplicável |
Limpeza PVD, deposição DLC |
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Vantagens do produto |
Feixe de íons estável, limpeza completa Melhorar muito a adesão do filme Adequado para processo PVD completo >Resfriado-a água para trabalho-longo Alta confiabilidade e baixa taxa de falhas |
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Personalizável |
Sim |
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