Fonte de Alimentação Magnetron Pulsada de Alta Potência

Vantagens da Tecnologia de Pulverização Magnetron Pulsada de Alta Potência (HIPIMS) ◆ A potência de impulso DC Magnetron convencional é limitada pela tensão térmica do alvo. ◆ A maior parte da energia colisional de íons pode converter diretamente em energia térmica do alvo. ◆ A fonte de energia pulsada do magnetron ...

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Introdução de Produto

Vantagens da Tecnologia de Pulverização Magnetron de Alta Potência Pulsada ( HIPIMS )

◆ A potência de impulso do magnetrão DC convencional é limitada pela tensão térmica do alvo.

◆ A maior parte da energia colisional de íons pode converter diretamente em energia térmica do alvo.

◆ A fonte de energia de magnetron pulsada garante alta potência de pulso e baixo ciclo de trabalho.

◆ A fonte de energia pulsada do magnetron pode substituir diretamente a fonte de energia de pulverização magnética DC.

Comparação entre Descarga de Sputtering Magnetron Pulsada de Alta Potência e Descarga de Disparo Magnetron DC

Características de alta potência pulsada Magnetron Descarga por Sputtering	Características da descarga de pulverização catódica de Dc Magnetron
A tensão de descarga do cátodo é de 500 ~ 2000 V, a densidade de corrente é de até 3 ~ 4A / cm2.	A intensidade do campo magnético é de 0,01 ~ 0,05 T, enquanto a tensão de trabalho é de 300 ~ 700 V sob o típico magnetron DC pressão de trabalho de pulverização (1 ~ 10 mTorr).
A densidade eletrônica perto da superfície do substrato: 10 ¹⁸ ~ 10 ¹⁹ m ^- ³	A densidade eletrônica próxima à superfície do substrato: 10 ¹⁵ ~ 10 ¹⁶ m-3
Densidade de potência: 1 ~ 3kW / cm ²	Baixa taxa de ionização (~ 1%) do alvo durante a pulverização catódica.
Freqüência: 100 ~ 1000Hz	Íons de gás inerte são na maioria
Ciclo de trabalho: 1% ~ 10%	Equipamento adicional de ionização auxiliar (RF de microondas) é necessário.

Recursos de alta potência pulsada Magnetron Sputtering Power Supply

◆ A descarga positiva e negativa do eletrodo é controlada por uma chave de alta velocidade para evitar que entre na área de descarga do arco da área de descarga incandescente anormal da tradicional pulverização catódica. A densidade de corrente é de até 1018-1019 / m3, o que é extremamente maior do que a tradicional pulverização catódica. E com altíssima taxa de ionização de 80% -99%, pode facilmente depositar uma variedade de filmes avançados com forte adesão.

◆ O poder de pulverização magnética de alta potência pulsada fornece características de filme mais excelentes em termos de consistência de filme, dureza, resistência ao desgaste e adesão.

◆ Com alto poder de impulso e baixo ciclo de trabalho, a fonte de alimentação de pulverização magnética de alta potência pulsada pode substituir diretamente a fonte de energia de pulverização catódica DC sem alterar o equipamento original de revestimento por pulverização catódica.

◆ A tecnologia de supressão de arco do PHP garante que os usuários possam controlar a qualidade do filme de forma mais conveniente no processo de tratamento de superfície. Com as características de estabilização de tensão e de golpe ideal, a fonte de alimentação pode efetivamente inibir o arco na superfície da peça de trabalho e melhorar significativamente o rendimento de produção, a fineza da superfície e a aderência do filme das peças de revestimento.

◆ A fonte de alimentação magnetron pulsada de alta potência adota avançada tecnologia de fonte de alimentação de comutação de inversor de alta frequência e módulo de alimentação IGBT de alta potência.

◆ Usando o microcontrolador touch screen, a fonte de alimentação é altamente integrada e poderosa, com fácil operação. A exibição de corrente e tensão é muito clara e intuitiva. Além disso, suporta a contagem de alta velocidade multicanal e a função de pulso de alta velocidade.

◆ A fonte de alimentação tem as funções de proteção para sobrecorrente, sobretensão e temperatura excessiva.

◆ A fonte de alimentação pode se comunicar com o computador host através de portas digitais como RS232, RS485, WIFI e assim por diante, o que expande sua função de controle.

Especificação do produto

Modelo do produto	EP50A80H
Alimentação de entrada e frequência (V / Hz) trifásica e de quatro fios	AC380 + N
	60Hz
Faixa de corrente de saída (A)	0 ～ 500
Precisão para tensão contínua e corrente constante	≤1%
Tensão nominal de saída (DCV)	800
Potência Média Máxima (KW)	40
Potência de pico (KW)	400
Ciclo de trabalho (%)	<>
Peso (KG)	60
Dimensões Externas (MM)	575 (D) × 480 (W) × 250 (H)
Grau de isolamento	B
Produtividade (%)	90
Classe de Proteção de Gabinete	Ip21
Modo operacional	Tensão constante, corrente constante e modos de potência constantes são opcionais.
Modo de Refrigeração	Arrefecimento a água
Interface externa	Todos os Produtos desta Série Adotam o Microcontrolador de Tela de Toque

Comparação entre a Fonte de Alimentação de Pulverização Magnetron de Alta Potência Impulse EP50A80H e Outros Produtos

	Impulso de alta potência Magnetron Sputtering
Marca	Huttinger	Hauzer	IKS
Modelo	Truplasma Highpulse 4000	HIPIMS +	EP50A80H
Potência Média Máxima	20KW	20KW	40KW
Pico de energia	1MW ~ 8MW	360KW	400KW
Voltagem	1KV, 2KV	800	800
Atual	1KA, 2KA, 4KA	600	500
Detecção de arco	<>	<>	<>
Embalagem （B * H * T）	483x635x676	nulo	480x268x700

Vantagens do Poder de Pulverização Magnetron de Pulverização de Alta Potência EP50A80H

◆ alta confiabilidade

O EP50A80H fornece características de filme mais excelentes em termos de consistência de filme, dureza, resistência ao desgaste e adesão.

◆ Excelente tecnologia de supressão de arco

O EP50A80H adota a tecnologia de supressão de arco do PHP, para que os usuários possam controlar convenientemente a qualidade do filme no processo de tratamento de superfície para obter uma melhor estrutura do filme.

◆ Boa compatibilidade

O EP50A80H pode substituir diretamente a fonte de alimentação de pulverização catódica existente. Em vez de substituir os materiais catódicos e os campos magnéticos, os usuários só precisam trocar o sistema de resfriamento.

◆ alta relação potência-volume

A relação de volume de alta potência facilita a integração da instalação de equipamentos para os usuários.

Aplicação

Fonte de alta potência MF magnetron catar sputtering é amplamente utilizado em campos de pesquisa científica plasma, físico, químico, médico e vários, pode atender a uma ampla gama de requisitos de processo, especialmente em equipamentos de revestimento a vácuo.