Chapeamento de íons PVD

Revestimento iônico

Princípio: Combinando as características de evaporação e pulverização catódica, durante o processo de evaporação, as partículas gasosas são ionizadas por meio de descarga luminosa para formar partículas iônicas. Sob a ação de um campo elétrico, essas partículas bombardeiam o substrato em alta velocidade, aumentando a adesão e a densidade do filme. É adequado para revestimentos-resistentes ao desgaste com altos requisitos de adesão (como revestimentos de ferramentas) e é frequentemente usado na deposição de camadas metálicas especiais em semicondutores.

A empresa IKS PVD oferece máquinas de revestimento decorativo, máquinas de revestimento de ferramentas, máquinas de revestimento DLC, máquinas de revestimento óptico e linhas de revestimento a vácuo PVD, com-projetos prontos para uso disponíveis. Contate-nos agora, E--e-mail: iks.pvd@foxmail.com