Características de deposição de alvo elementar e alvo de liga
Sep 02, 2024| Características de deposição de alvo elementar e alvo de liga
Os revestimentos quaternários de (Cr,Ti,Al)N podem ser preparados por co-pulverização de alvos elementares múltiplos ou por pulverização catódica direta de alvos de liga multicomponentes. A vantagem de múltiplos alvos elementares depositados em revestimentos de (Cr, Ti, Al) N por co-sputtering é que cada alvo é independente um do outro, e o conteúdo de elementos metálicos Cr, Ti e Al nos revestimentos pode ser controlado independentemente pelo corrente alvo ou potência alvo [21], obtendo assim revestimentos de (Cr, Ti, Al) N de diferentes proporções de composição [53]. Tem vantagens óbvias na preparação de filmes multicamadas e filmes mistos. As desvantagens deste método são que existem muitos parâmetros ajustáveis, a reciclagem multi-alvo leva a uma composição irregular do revestimento e a proporção estequiométrica dos elementos no revestimento (Cr, Ti, Al) N não pode ser controlada com precisão [54]. Ao usar o revestimento quaternário de deposição de alvo de liga (Cr, Ti, Al) N, o controle dos parâmetros é relativamente simples e a proporção de composição do revestimento é geralmente próxima daquela do alvo de liga usado [55], portanto é mais fácil obter o revestimento quaternário de (Cr,Ti,Al)N com composição uniforme. No entanto, devido aos diferentes rendimentos de pulverização catódica de cada elemento que constitui o alvo da liga durante o processo de pulverização catódica, existe um problema de seleção da pulverização catódica de diferentes elementos, de modo que a proporção de composição do revestimento ainda é diferente daquela da liga alvo [56] . Atualmente, no estudo da preparação de revestimentos quaternários de (Cr, Ti, Al) N por pulverização catódica por magnetron, os alvos de liga mais comuns são o alvo AlTi e o alvo AlCr.
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