Taxas de Deposição de Filmes em Magnetron Sputtering

As taxas de deposição de filmes em pulverização catódica são geralmente altas, variando de alguns nanômetros por segundo a alguns micrômetros por hora, dependendo do tipo de alvo, temperatura do substrato e pressão. A taxa de deposição pode ser controlada ajustando a densidade de potência e a pressão do gás na câmara.

Empresa IKS PVD, máquina de revestimento decorativo, máquina de revestimento de ferramentas, máquina de revestimento DLC, máquina de revestimento óptico, linha de revestimento a vácuo PVD, o projeto pronto para uso está disponível. Contate-nos agora, e-mail: iks.pvd@foxmail.com