Fontes de revestimento de evaporação têm três tipos

Fontes de revestimento de evaporaçãotertrês tipos.
(1) fonte de aquecimento por resistência: com metais refratários como tungstênio, tântalo feito de folha ou filamato, através da corrente, aquecimento na parte superior ou colocada no material de evaporação do cadinho, a fonte de aquecimento por resistência é usada principalmente para evaporação de Cd, Pb , Ag, Al, Cu, Cr, Au, Ni e outros materiais;
(2) fonte de aquecimento por indução de alta frequência: cadinho de aquecimento por corrente de indução de alta frequência e substâncias de evaporação;
(3)Fonte de aquecimento de feixe de elétrons: adequada para alta temperatura de evaporação (não inferior a 2.000 [618-1]) do material, ou seja, o material de bombardeio de feixe de elétrons para fazê-lo evaporar.
Comparado com outros métodos de revestimento a vácuo, o revestimento evaporativo tem uma taxa de deposição mais alta e pode ser usado para preparar filmes compostos com substância elementar e difícil decomposição térmica.
A fim de depositar filmes de cristal único de alta pureza, a epitaxia de feixe molecular pode ser usada. O dispositivo de epitaxia de feixe molecular da camada de cristal único GaAlAs dopado por crescimento. O forno a jato é equipado com uma fonte de feixe molecular. Quando é aquecido a uma determinada temperatura em ultra-alto vácuo, os elementos no forno disparam para o substrato em uma corrente molecular. Quando o substrato é aquecido a uma determinada temperatura, as moléculas depositadas no substrato podem migrar e crescer cristais de acordo com a ordem da rede do substrato. Filmes de cristal único de composto de alta pureza com a razão estequiométrica desejada podem ser obtidos usando o método de epitaxi de feixe molecular. A taxa de crescimento mais lenta do filme pode ser controlada em 1 monocamada / segundo. Ao controlar o defletor, a composição e estrutura desejadas do filme fino de cristal único podem ser feitas com precisão. A epitaxia de feixe molecular é amplamente utilizada na fabricação de vários dispositivos ópticos integrados e filmes de estrutura de superrede

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