Fonte de alimentação de pulverização catódica magnetron

Fonte de alimentação de pulverização catódica Magnetron

Do ponto de vista da forma de onda de saída, com o desenvolvimento da própria tecnologia de pulverização catódica de magnetron, ela experimentou várias formas de DC, pulso unipolar, pulso bipolar simétrico (fonte de alimentação de pulverização catódica de magnetron de média frequência) e pulso bipolar (potência de pulverização catódica de magnetron de média frequência assimétrica fornecer). Atualmente, a nova fonte de alimentação de pulverização catódica de magnetron é feita de tecnologia de fonte de alimentação de comutação de inversor de alta frequência, e a fonte de alimentação de pulverização catódica de magnetron de média frequência tornou-se a fonte de alimentação preferida para novos equipamentos de pulverização catódica de magnetron. Para controlar com precisão a espessura da camada de filme, a fonte de alimentação de pulverização catódica do magnetron deve funcionar de forma estável e ter boas características constantes. Atualmente, o principal uso do modo de corrente constante, também existe o modo de energia constante, mas raramente usa o modo de tensão constante. Além disso, uma vantagem significativa da tecnologia de revestimento por pulverização catódica magnetron é que a camada de filme é densa e o acabamento é bom. Para alcançar esta vantagem, é necessário limitar estritamente o número de tempos de incitação e a energia de cada incitação na superfície alvo durante o processo de pulverização catódica do magnetrão, e minimizar o número de partículas alvo macroscópicas causadas pelo momento de incitação, o que reduzirá o densidade e acabamento da camada de filme, e causar seriamente a queda do filme

Empresa IKS PVD, máquina de revestimento decorativo, máquina de revestimento de ferramentas, máquina de revestimento DLC, máquina de revestimento óptico, linha de revestimento a vácuo PVD, o projeto pronto para uso está disponível. Contate-nos agora, e-mail: iks.pvd@foxmail.com