Temperatura do substrato PECVD

A influência da temperatura do substrato na qualidade do filme reside principalmente na densidade do estado local, na mobilidade eletrônica e nas propriedades ópticas do filme. O aumento da temperatura do substrato é benéfico para a compensação da ligação em suspensão na superfície do filme, e a densidade de defeitos do filme diminui.

A temperatura do substrato tem pouco efeito na taxa de deposição, mas grande efeito na qualidade do filme. Quanto maior a temperatura, maior a densidade do filme de deposição, quanto maior a temperatura aumenta a reação da superfície e melhora a composição do filme.

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