Técnica de revestimento de íons pulsada para chapeamento de filme DLC

Partículas de alta energia estão envolvidas no revestimento. Por um lado, eles podem tornar o filme denso, formar uma boa camada de transição com o substrato e ter a vantagem de aumentar a aderência do filme. Por outro lado, o estresse interno do filme é aumentado e resultando na quebra do filme. Isto é particularmente evidente quando o filme DLC é banhado. Existem muitos fatores que causam fenômeno de liberação de estresse, e também é mais complicado. Os fatores mais importantes e diretos são o estado da superfície do substrato, a condutividade térmica do substrato, a temperatura do substrato, a taxa de deposição e a espessura do filme.

Com o aumento da temperatura do substrato, a adesão do filme aumenta. O filme de DLC é banhado pelo processo de ionização por arco pulsado, que geralmente é depositado a uma temperatura baixa, e a camada de filme apresenta tensão de tração. Quando depositado a altas temperaturas, a densidade do filme aumenta e o estresse de compressão aparece. Neste momento, o filme é danificado e a adesão diminui rapidamente. Portanto, existe um limite superior para o aumento da temperatura do substrato durante o processo de galvanização.

Existe um limite de taxa de deposição ótimo diferente para cada substrato. Nesse limiar, a adesão é a melhor; abaixo desse valor, o filme é um pouco frouxo e a adesão é levemente fraca e acima desse valor, o estresse interno na camada de filme aumenta acentuadamente, e a adesão é a pior. Em casos graves, a camada de filme terá um fenômeno global de peeling.

O filme de DLC foi revestido por chapeamento iônico por arco pulsado. A tensão interna aumentou correspondentemente com o aumento da espessura do filme. Correspondente a diferentes materiais de substrato e diferentes processos de revestimento, a espessura máxima tem um valor limite. Dentro desse limiar, a adesão é muito boa, excedendo esse limiar, a adesão é extremamente ruim, e o filme está caindo.

Quando o filme de DLC é plaqueado pelo método de galvanização por arco pulsado, diferentes processos de plaqueamento são selecionados de acordo com diferentes materiais de substratos e diferentes espessuras de filme, caso contrário, tanto quanto possível para melhorar o acabamento superficial e limpeza do substrato; escolha razoável da temperatura do substrato e taxa de deposição. Quando o material do substrato tem boa condutividade térmica e camada de filme fino, a maior taxa de deposição pode ser selecionada. Pelo contrário, a taxa de deposição precisa ser reduzida para garantir um alto grau de firmeza entre o filme e o substrato.