Materiais PVD
Dec 28, 2017| PVD ou materiais de deposição de vapor físico compreendem uma gama de metais que podem ser usados em magnetrons de pulverização para criar filmes finos e revestimentos. A Angstrom Sciences também oferece uma seleção abrangente de materiais de deposição de vácuo de alta pureza, incluindo:
Alumínio Cobre de alumínio Cobre de alumínio Tungstênio Nitrido de alumínio Óxido de aluminio Silício de alumínio Antimônio Bário Ferrite de bário Fluoreto de Bário Estrôncio de bário Titanato Titanato de bário Óxido de bário Berílio Bismuto Lantânio do Bismuto Titânio Bismuto Estrôncio Calcio Titanato de estrôncio de bismuto Óxido de titânio de bismuto Trióxido de bismuto Boro Carburo de boro Nitrido de boro Fluoreto de cádmio Óxido de cádmio Seleneto de cádmio Sulfeto de cádmio Telluride de cádmio Fluoreto de cálcio Óxido de cálcio Silicato de cálcio Titanato de cálcio Carbono (grafite) Aço carbono Cério Óxido de cerio Cromo Boride de cromo Óxido de cromo Silicidio de cromo Cobalto Cromo de cobalto Óxido de cobalto Silicidio de cobalto Zircônio Cobalto Cobre | Sulfeto de cobre Óxido de cobre Dysprosium Erbium Europium Gálio Arseneto de gálio Óxido de Gálio Gadolinium Germânio Nitrido de germânio Óxido de germânio Ouro Goldium de ouro Gold Paládio Lata de ouro Zinco de ouro Háfnio Carburo de Hafnium Nitrido de Hafnium Óxido de Hafnium Holmium Inconel Índio Óxido de índio Óxido de estanho de índio Irídio Ferro Óxido de ferro Conduzir Lantânio Lantânio aluminado Boride de Lantânio Óxido de Lantânio Estrôncio de Lantânio Óxido de cobalto Lantânio Manganês Óxido Óxido de chumbo Titânio de chumbo Titânio Titular de Zircônio Óxido Lítio Carbonato de lítio Óxido de cobalto de lítio Niobato de lítio | Fosfato de lítio Tantalato de lítio Magnésio Fluoreto de magnésio Monóxido de magnésio Óxido de magnésio Manganês Molibdênio Molibdênio Disulfeto Óxido de molibdênio Seleneto de molibdênio Silicidio de molibdênio Sulfeto de molibdênio Neodímio Óxido de gálio de neodímio Boride de ferro de neodímio Níquel Cromo de níquel Cobalto de níquel Óxido de níquel Silicone de níquel Níquel vanádio Nióbio Óxido de Niobio Paládio Platina Praseodímio Nitrido de boro priolítico Rênio Ródio Rutênio Samário Cobalto de Samário Escândio Óxido de escândio Selênio Silício Carburo de silício Dióxido de silício Monóxido de silício Nitrido de silício Prata Óxido de Prata Niobio de estrôncio bismuto Óxido | Tíbulo de estrôncio bismuto Nióbio Lantânio dopado com estrôncio Óxido de estrôncio Titanato de estrôncio Tântalo Carburo de tântalo Nitrido de tântalo Óxido de tântalo Silicídio de tântalo Sulfeto de tântalo Telúrio Térbio Ferro térmico Tálio Óxido de talio Fluoreto de torio Óxido de torão Lata Óxido de estanho Titânio Boride de titânio Carburo de titânio Nitrido de titânio Óxido de titânio Silicidio de titânio Sulfuro de titânio Tungstênio Silicídio de tungstênio Sulfeto de tungstênio Tungstênio Titânio Vanádio Vanadium Pent Oxide Ítrio Óxido de cobre de erva de ítrio Óxido de ítrio Zinco Óxido de zinco Seleneto de zinco Sulfeto de zinco Zircônio Nitrido de zircónio Óxido de zircónio Silicato de zircônio Óxido de zircónio Óxido de ítrio |
Aqui estão três fatores que influenciam a qualidade e a funcionalidade de um filme depositado por deposição física de vapor (PVD): qualidade e desempenho da fonte de deposição, propriedades e estrutura dos materiais de deposição e desempenho intrínseco e disposição da deposição. sistema e seus "periféricos associados".
Nem todos os materiais são equivalentes nestes processos, uma vez que a composição química do material de origem é apenas o ponto de partida de um processo robusto e específico da aplicação. Os níveis de impurezas, o tamanho do grão, a estrutura / textura cristalográfica são apenas algumas das considerações que se encaixam exclusivamente na adaptação da estrutura de uma estrutura de deposição adequada.