Método e material de revestimento a vácuo

Revestimento a vácuométodo e material

(1) Evaporação a vácuo: o substrato a ser revestido é limpo e colocado na câmara de revestimento. Depois de ser evacuado, o material do filme é aquecido a uma alta temperatura, de modo que o vapor atinja cerca de 13,3Pa e as moléculas de vapor voem para a superfície do substrato e se condensem no filme.(2) Chapeamento catódico catódico: Será necessário revestir a matriz no catodo oposto, o acesso ao gás inerte, como argônio) deve ser interno, para manter a pressão é de cerca de 1,33 ~ 13,3 Pa, o catodo pode então ser conectado a 2.000 v fonte de alimentação dc, e estimular a descarga luminescente, cátodo de impacto de íon-argônio carregado positivamente, os átomos de injeção, pulverização de átomos pela membrana é formada na atmosfera inerte para o substrato.
(3) Deposição de vapor químico: um processo de deposição de filmes finos por decomposição térmica de compostos metálicos ou orgânicos selecionados.
(4) revestimento iônico: em essência, o revestimento iônico é uma combinação orgânica de evaporação a vácuo e pulverização catódica, e tem as características de processo de ambos.

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