Processo de Chapeamento de Íons a Vácuo (PVD)

Processo de revestimento iônico a vácuo (PVD)

Como todos sabemos, existem muitos métodos de revestimento, método de geração de fase gasosa, método de oxidação, método de injeção de íons, método de difusão, método de galvanoplastia, método de revestimento, método de geração de fase líquida, etc. O método de geração de fase gasosa pode ser dividido em deposição física de vapor, deposição química de vapor e polimerização por descarga. O que apresentamos principalmente hoje é o método de Deposição Física de Vapor, ou seja, PVD (Deposição Física de Vapor). Como esse método é basicamente realizado em um ambiente de vácuo, também é chamado de tecnologia de revestimento iônico a vácuo.
A tecnologia de revestimento PVD refere-se à condição de vácuo, o uso de baixa tensão, alvo de bombardeio de tecnologia de descarga de arco de grande corrente, o uso de descarga de gás, a evaporação do alvo e a evaporação de material e gás são ionizados, usando a aceleração do campo elétrico , de modo que a evaporação do material e sua deposição de produtos de reação na peça de trabalho.
O processo de revestimento do produto é um ambiente de alto vácuo, a pressão do ar na máquina de revestimento é muito baixa, durante o processo de vácuo, graxa, impurezas e água na superfície do produto transbordarão, o que levará à instabilidade do vácuo, de modo que o a superfície do produto e o interior não devem conter substâncias não metálicas, a superfície também deve garantir limpeza absoluta.
O processo de revestimento a vácuo precisa passar por uma inspeção de material, limpeza de superfície, cozimento em alta temperatura, ferramentas suspensas, revestimento (PVD), material de revestimento, tratamento de trefilação (cobre antigo), processamento nano anti-impressão digital, cozimento, ferramentas suspensas, inspeção, embalagem e mais de uma dezena de processos, para completar.

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