A diferença entre o revestimento de íon a vácuo PVD e o revestimento tradicional
May 06, 2022| A diferença entre chapeamento iônico a vácuo PVD e chapeamento tradicional
Chapeamento de água convencional | Tecnologia de revestimento iônico a vácuo PVD | |
métodos
| Na atmosfera, usando eletrólitos como meio, é um processo de alta poluição | Sob um ambiente de vácuo, o plasma como mídia pertence ao processo de proteção ambiental |
característica | Boa uniformidade, superfície de filme brilhante. Mas apenas na forma de revestimento, cobrindo a superfície sem força densa | A qualidade do filme é firme, a uniformidade depende da estrutura do dispositivo rotativo |
dureza | A dureza é de cerca de HV900 | A dureza pode chegar a mais de HV1800 |
espessura | A espessura é cerca de 10 vezes mais do que o revestimento | A espessura do nível de mícron (μm), excelente revestimento |
densidade | A expansão a quente e a contração a frio caem facilmente | O penetrador de diamante com uma largura de superfície de 0,2 mm quadrados pode suportar o peso vertical de mais de 10 kg sem descascar |
A espessura do revestimento a vácuo pertence ao nível de mícron, 1μm é equivalente a um décimo da galvanoplastia tradicional, portanto, após a operação de revestimento, não afetará a precisão da peça; O método tradicional de galvanização é formar uma camada de revestimento de galvanoplastia em forma de revestimento, e não há alta densidade.
diferença de forma de filme entre chapeamento de íons a vácuo PVD e galvanoplastia
Diagrama de processo de galvanoplastia tradicional Diagrama de processo de revestimento de PVD
Geralmente, o revestimento úmido é feito revestindo uma película fina sobre a superfície, independente da forma original do substrato, a superfície da película tenderá a ser plana. O revestimento PVD formará uma camada de revestimento no topo da forma média do substrato, de acordo com a altura da forma do substrato é diferente, a altura da forma do revestimento está de acordo com o estado original do substrato.
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