O processo de chapeamento de íons

O processo de chapeamento de íons é o seguinte:

A fonte de evaporação está conectada com o ânodo, e a peça de trabalho está conectada com o cátodo. Depois de passar de três a cinco mil volts de alta tensão de corrente DIRETA, a descarga de brilho é gerada entre a fonte de evaporação e a peça de trabalho. Como a tampa de vácuo é preenchida com argônio inerte, parte do argônio é ionizada sob a ação do campo elétrico de descarga, e uma região escura de plasma é formada em torno da peça de trabalho do cátodo. O íon argônio de carga positiva é atraído pela alta pressão negativa do cátodo e bombardeia a superfície da peça de trabalho ferozmente, fazendo com que as partículas e sujeira na superfície da peça de trabalho sejam explodidas, de modo que a superfície da peça de trabalho a ser banhada foi totalmente limpa pelo bombardeio de íons. Em seguida, a fonte de alimentação ac da fonte de evaporação é conectada, e as partículas de material evaporante derretem e evaporam, entram na zona de descarga de brilho e são ionizadas. Com íons materiais de evaporação de carga positiva, sob a atração do cátodo, juntamente com íons de argônio correram para a peça de trabalho, quando os íons materiais de evaporação na superfície da peça de trabalho excedem o número de íons de respingo, gradualmente acumulados para formar uma camada de adesão sólida à superfície do revestimento da peça de trabalho. Este é o simples processo de chapeamento de íons.

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